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真空鍍膜:
物理氣相沉積（英語：Physical vapor deposition，PVD）是一種工業製造上的工藝屬於鍍膜技術的一種，是主要利用物理方式來加熱或激發出材料過程來沉積薄膜的技術，即真空鍍膜(蒸鍍)，多用在切削工具與各種模具的表面處理，以及半導體裝置的製作工藝上